25초 만에 가능한 plating

• 최고 속도의 rotating arm

• 특허 받은 전자 자동화 시스템

• 동일 샘플을 10plate 분주하는데 2분 이내 가능

자동세척 기능

• Overflow 방식의 cleaning system으로 교차오염의 우려가 전혀 없음

고속 자동화
• Disunfection+sample intake+plating를 25초만에 수행 가능

2가지 모드 기능
• Exponential mode: 플레이트에 50, 100, 200μL 또는 볼륨 프로그램밍이 가능, 페트리접시에 군락이 없기 때문에 군집계수가 쉬움
• Constant mode: 플레이트에 50, 100, 200μL 또는 볼륨 프로그래밍, 100~1X10⁷ CFU/ml 계수

정확도 높은 피펫

• 일반적인 피펫보다 높은 정확도(피펫 보정은 불가)

Traceability
• 모든 샘플 데이터는 Datamatrix 라벨에 설정

컴팩트한 디자인
•38cm폭으로 clean bench내부에서 사용이 가능

대용량
•2L의 autoclave 가능한 bottle(희석액&세척액용)과 connector

원터치 방식
•4가지의 plating mode 선택이 가능하며 50, 90, 150mm 페트리디쉬 선택 가능

신속, 정확한 자동화
•빠른 회전으로 1 세척, 5단계 희석, 1 분주를 단 133초에 해결

쉽고 정확한 단계별 희석
• 희석단계를 선택할 수 있으며 10^-5 또는 그 이상으로 자동 단계별 희석이 가능

자동세척 기능
• Overflow 방식의 cleaning system으로 교차오염의 우려가 전혀 없음